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等离子抛光机工作原理及应用范围

发布时间:2017-03-20 17:47:40

等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面,工件凸起处电流冲击高而去除快,电流流动,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平。

等离子抛光原理:

等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。溶液不参加化学反应,成本低,与传统的化学电解抛光相比,成本非常低。

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子纳米化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质.

等离子抛光和电解抛光的适用行业:

手机电子、集成电路制造、运动器材(高尔夫球具)、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、医疗器械、手表饰品、汽车配件、LED制程、数码配件、精密模具、航空航天及五金制品等行业。


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